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euv光刻機難還是原子彈難?

2022-11-24 14:24:29 作者:蔡金盛
最近幾個月,關于我們的芯片被卡在美國脖子上的憤怒在中國蔓延,于是很多人把目光投向了光刻機,誓要打造我們自己的光刻機。原因是我們可以在一貧如洗的年代造出原子彈,但你害怕光刻機嗎?

那么,制造掩模對準器很難嗎?還是造原子彈難?雖然小編不是這方面的專家,但半年多來,小編一直在通過很多專家、媒體或渠道學習一些芯片制造的基礎知識。那么小編敢于談論這個需要整合全球知識和技術的話題。

這里就不討論它的制造工藝了。這不屬于小編的專業(yè)領域。我只談小編學到的一些困難。

根據光刻機的發(fā)展歷程和所使用光源的不同,我們可以將光刻機依次分為紫外光源(uv)、深紫外光源(duv)和極紫外光源(euv),小編就不解釋它們的工作原理了。

如果沒記錯的話,如果要生產7 nm以下的芯片(請見諒),需要euv極紫外光源的光刻機。euv光刻機也是目前世界上最先進的光刻機,現(xiàn)在世界上只有一個能做出來:asml(荷蘭的鎮(zhèn)國之寶)。

單臺價格近1.5億歐元,折合人民幣近11.8億元。

光刻機之所以這么貴,是因為它融合了三星、TSMC、英特爾等涉及芯片制造的世界頂級公司的多項技術,以及無數相關行業(yè)等。在芯片生產的整個過程中,都會涉及到ic設計、ic制造和ic封裝測試。最大的難點和關鍵在于如何將線路圖從掩膜版轉移到硅片上,這個過程是通過光刻來實現(xiàn)的。

在這里,當我們還在努力做光刻機的時候,TSMC已經宣布攻克了2nm芯片,2nm芯片將是一個全新的領域,因為它將采用全新的生產材料和制造工藝,這意味著TSMC未來將在2nm芯片領域擁有絕對的話語權,而三星未來可能真的只能哭了。

因此,光刻機的工藝水平將直接決定芯片的工藝水平和性能水平。從前面的介紹可以看出,光刻機只是整個芯片制造的一個環(huán)節(jié),當然也是最重要的一個環(huán)節(jié)。但是,要想完成光刻機的設計和制造,必須掌握以下掌握在自己手中的科技力量,包括:高分子物理化學、表面物理化學、數學、光學、流體力學、精密儀器、機械、自動化、軟件。

先不說我們有沒有這么大的人才庫。既然光刻機里面有很多公司的知識和技術,必然會涉及到知識產權。

很多人可能也會覺得,我們這幾年對知識產權的保護越來越嚴格了。最典型的例子就是對盜版電影的打擊,而國外對知識產權的保護只會更嚴格,涉及到美國、日本等半導體方面實力很強的公司。

所以我們要造光刻機,首先要突破他們的知識產權封鎖,這是一條非常艱難的路。

原子彈呢?回想一下,當我們制造原子彈的時候,是誰幫助建立了軍事工業(yè)的基礎?答案是蘇聯(lián)。

關于原子彈的制造和設計,我們有哪些科學家?小編說了幾個:

在居里夫婦指導下從事輻射研究的科學家錢三強;

從美國回來的加速器設計制造科學家趙忠堯;

王,清華大學畢業(yè)后赴德留學的物理學家;

有我們的“原子彈之父”,核物理學家鄧稼先;

.等等。

當年,這些科學家除了有一股火熱的愛國熱情外,大部分都有一個共同點,那就是幾乎都是出國回國,都是在西方國家留學或從事航天、核物理等相關知識的深造和工作,幾乎都是那些領域的頂尖人才。

正是在這樣的背景下,我們在那個貧困的年代創(chuàng)造了“驚天動地的聲音”。

那么,我們現(xiàn)在的人才庫中,有多少人能取得和鄧稼先一樣的成就?

即使我們現(xiàn)在有很多制造掩膜版對準器的人才,但掩膜版對準器只是芯片制造眾多步驟中的一個。

比如芯片的生產,需要絕對無塵的環(huán)境,任何比頭發(fā)絲還要細幾倍甚至幾十倍的灰塵都會影響芯片的最終成品率。其中有一種清潔液(具體名字記不清了),目前只能在日本生產,因為只有這家日本公司能把這種清潔液做到幾乎絕對純凈。

另外,芯片制造需要非常非常高的加工精度。比如我們把一個晶圓的尺寸放大到德國的面積,那么整個晶圓表面在制造過程中的高度誤差范圍是多少?

答案是:1厘米!

綜上所述,芯片制造并不是很多人想的那樣。如果你買一個光刻機,你可以做一個芯片。否則,武查成交價|參配|優(yōu)惠政策)洪欣抵押給銀行的光刻機早就贖回來了。

芯片制造是眾多上下游產業(yè)鏈的大集合。除了前面提到的困難之外,還有例如芯片制造出來之后如何封裝和運輸,因為這些載體要求具有絕對的抗震性和穩(wěn)定性,在顛簸的運輸過程中不能對晶圓造成任何損傷。

再說了,就算光刻機來了,廠家應該怎么組裝?那怎么調試呢?

如果你不會組裝,即使給你一個光刻機,你也無能為力,因為光是組裝就需要非常高的精度。

如果能聚集一批科學家造出原子彈,芯片從原材料到成品的運輸過程中可能需要整合上千家供應,每個供應商都要有絕對過硬的技術。只要其中一個有缺陷,其結果將直接影響成品芯片的質量。

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